Silício

Monitoramento preciso com tecnologia RF
em condições exigentes

Os sensores de nível pontual para sistemas de medição capacitiva oferecem uma ampla gama de aplicações em vários meios, como líquidos, pastas, espumas e polpas. Esses sensores podem ser integrados a uma ampla variedade de tipos de reservatório, sejam eles feitos de materiais metálicos ou não metálicos.

A precisão excepcional das chaves de nível capacitivas se estende a meios condutores e não condutores. A importância do princípio de medição capacitiva é particularmente evidente na prática, pois fornece resultados precisos e confiáveis mesmo sob condições de processo exigentes. As opções flexíveis de aplicação e a alta precisão de medição fazem dos sensores de nível pontual capacitivos a solução ideal para inúmeras aplicações industriais.

 

Uma grande empresa de mineração no Peru enfrentou o desafio de instalar um sistema confiável de medição de nível pontual para um reator de hidratação de silício. Esse reator, que é essencial para a produção de compostos de silício, opera em condições complexas: O sistema envolve uma temperatura de processo de 120°C e vapor intenso. As dimensões do tanque são de 2 metros de altura e 5 metros de comprimento. A tarefa de Fernando Soares Pinto, diretor de vendas para a América Latina/Ibéria da equipe da UWT na América do Sul, era encontrar um sensor que pudesse suportar as condições adversas e, ao mesmo tempo, fornecer resultados de medição precisos e confiáveis.

 

Sensor robusto com tecnologia de RF capacitiva para condições exigentes

A solução da UWT para essa aplicação exigente foi a chave de nível capacitiva RFnivo® 8100. Esse sensor foi especialmente projetado para temperaturas de processo de até 200 °C e sobrepressões de processo de até 35 bar. Seu design robusto, no qual tanto a sonda quanto a vedação FKM em contato com o meio têm alta resistência química, torna o RF 8 a primeira opção para essa aplicação. A vedação FKM também é altamente resistente termicamente e impede a entrada de qualquer gás ou líquido.

Como o RFnivo® atende aos requisitos em um reator de hidratação de silício:

Em um reator de hidratação de silício, prevalecem condições que representam um grande desafio para os sensores convencionais. O processo gera vapor intenso e a condensação geralmente se forma ao redor da conexão ao processo. Além disso, os sensores devem ser capazes de operar de forma confiável em altas temperaturas e sob alta pressão.

O RFnivo® 8100 supera todos esses desafios graças às suas tecnologias inovadoras e ao seu design robusto:

Tecnologia Active Shield: essa tecnologia garante que a formação de condensado ao redor da conexão ao processo não influencie o resultado da medição. O sensor permanece insensível a meios aderentes e, portanto, garante medições precisas mesmo sob influência constante de vapor.

Tecnologia Inverse Frequency Shift:  esse método permite que o sensor forneça resultados de medição precisos, mesmo sob condições de processo amplamente variáveis. Ele garante que o sensor seja capaz de medir com precisão o valor DK do meio, o que é essencial para a detecção precisa do nível.

 

  

  

Implementação do detector máximo para monitoramento preciso

A instalação do RFnivo® 8100 no reator de hidratação de silício da empresa de mineração peruana ocorreu sem problemas. O sensor foi instalado como um detector de nível máximo a partir de cima no reservatório de aço para monitorar com precisão o nível máximo de abastecimento. Graças ao design robusto e à tecnologia confiável do sensor, a empresa conseguiu garantir o monitoramento contínuo e preciso do nível do reator.

Graças à solução UWT, a empresa não só conseguiu melhorar a eficiência e a segurança de seus processos, mas também reduzir os custos operacionais por meio da operação sem manutenção do sensor.

 

  

O que torna o RFnivo® com o sinal de alta frequência tão especial?

Resistente à temperatura: cependendo da versão, o sensor tem uma faixa de temperatura de processo de -40°C a +400°C, o que o torna ideal para aplicações em ambientes de água quente e vapor, entre outros..

Resistente à pressão: com uma resistência à pressão de até 35 bar, o RF 8 também pode ser usado em ambientes operacionais extremos.

Resistência química: a vedação FKM oferece excelente resistência ao meio e impede a entrada de qualquer gás ou líquido, o que é particularmente importante em ambientes quimicamente agressivos.

Livre de manutenção: o sensor praticamente não precisa de manutenção e oferece uma garantia de até 6 anos, o que reduz significativamente os custos operacionais.

Versatilidade: o RF 8 pode ser usado como detector de nível máximo, intermediário e mínimo em todos os líquidos, inclusive líquidos viscosos, a partir de um valor DK de 1,5, o que o torna uma ferramenta universal para várias aplicações.